Покрытия из оксида алюминия, получаемые на детонационном комплексе CCDS2000 Full article
| Journal |
Прикладная механика и техническая физика
ISSN: 0869-5032 |
||
|---|---|---|---|
| Output data | Year: 2025, Number: 5, Pages: 35-46 Pages count : 12 DOI: 10.15372/pmtf202515674 | ||
| Authors |
|
||
| Affiliations |
|
Abstract:
Представлено описание детонационного комплекса CCDS2000 и показаны его возможности при нанесении электроизоляционных и износостойких покрытий из оксида алюминия. Показано, что диэлектрическая прочность покрытий составляет более 25 кВ/мм в диапазоне толщин 50 ÷ 300 мкм. Электрическое сопротивление покрытий ρe > 2,67 × 1013 Ом · см при температуре 20 °С и относительной влажности атмосферы до 59 %. При дальнейшем увеличении влажности значение ρe резко уменьшается на 2-3 порядка. Адгезия на стальной подложке достигает 60 ÷ 70 МПа, микротвердость HV0,1 = 1522 ÷ 1655, пористость ̶ 0,35 ÷ 1,00 %. Установлено, что для получения электроизоляционных покрытий целесообразно использовать детонирующую смесь C2H2 + 2O2, а для получения оптимальных параметров износостойкости - смесь 0,69C2H2 + 0,53C3H6 + 2,51O2. При переходе на двухтопливную смесь обеспечивается увеличение абразивной стойкости в четыре раза и эрозионной стойкости на 34 %
Cite:
Ульяницкий В.Ю.
, Батраев И.С.
, Рыбин Д.К.
, Штерцер А.А.
Покрытия из оксида алюминия, получаемые на детонационном комплексе CCDS2000
Прикладная механика и техническая физика. 2025. №5. С.35-46. DOI: 10.15372/pmtf202515674 РИНЦ
Покрытия из оксида алюминия, получаемые на детонационном комплексе CCDS2000
Прикладная механика и техническая физика. 2025. №5. С.35-46. DOI: 10.15372/pmtf202515674 РИНЦ
Translated:
Ulianitsky V.Y.
, Batraev I.S.
, Rybin D.K.
, Shtertser A.A.
Alumina Coatings Produced Using the CCDS2000 Detonation System
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics. 2025. V.66. N5. P.855-864. DOI: 10.1134/S0021894425700415
Alumina Coatings Produced Using the CCDS2000 Detonation System
Journal of Applied Mechanics and Technical Physics. 2025. V.66. N5. P.855-864. DOI: 10.1134/S0021894425700415
Identifiers:
| Elibrary: | 82562210 |
Citing:
Пока нет цитирований